ＮＴＴアドバンステクノロジ、シンガポールのナノテク・プロジェクトに参画

【シンガポール】ＮＴＴアドバンステクノロジ（ＮＴＴ—ＡＴ）は１６日、シンガポール科学技術研究庁材料工業研究所が主催する「ナノインプリント産業コンソーシアム（ＩＣＯＮ）」に参画すると発表した。

　ナノインプリントは数十から数百ナノメートル（ナノメートル＝ミリメートルの１００万分の１）の微細パターンを部材表面に形成する技術で、あらかじめモールド（金型）に形成した微細なパターンを部材に転写する。露光やエッチングなどの複雑な工程を用いずに少ない材料で微細パターンを形成できる省資源の技術。微細パターンにより、光が複雑に反射することで得られる低反射特性や、微細構造によるはっ水性や抗菌性など、部材の表面に特定の性質を付与できると期待されている。

　ＩＣＯＮでは今回、大面積機能フィルムとその材料開発を主要テーマとしたプロジェクトが１年間の期間で設置された。ＮＴＴ—ＡＴはナノインプリント用モールドの微細加工技術のノウハウを生かしてこのプロジェクトに参画し、プロジェクトの核となるモールドを提供する。これにより、ナノインプリント技術の低コスト化・大面積化を進め、ナノインプリント用モールド技術の応用領域拡大を目指す。